[投影之窗消息]
日前，愛發(fā)科開發(fā)出了在大尺寸液晶面板TFT布線時(shí)可用銅替代鋁的濺射技術(shù)。提高了布線與玻璃基板及非晶硅層的密著性，同時(shí)防止了原子擴(kuò)散。該技術(shù)已經(jīng)開始向液晶面板廠商推薦，希望能夠?qū)⑵鋺?yīng)用在50英寸級(jí)和60英寸級(jí)以上的液晶電視以及高精細(xì)數(shù)字廣告牌上。
隨著液晶面板向大型化發(fā)展，業(yè)界希望開發(fā)出布線電阻小的材料。目前的主流材料為鋁合金，但是在50英寸以上的面板中，存在由于布線較長，導(dǎo)致信號(hào)劣化的問題。為避免這種情況，大多是在面板兩側(cè)安裝驅(qū)動(dòng)IC來分擔(dān)驅(qū)動(dòng)，不過這樣又會(huì)使成本增加。而布線使用銅的話，能夠只由面板一側(cè)來驅(qū)動(dòng)，從而使驅(qū)動(dòng)IC的成本減半。此前也有布線時(shí)使用銅的工藝，但問題是銅與玻璃基板及硅層等的密著性較差，并且銅原子容易向硅層擴(kuò)散。
愛發(fā)科千葉超材料研究所此次開發(fā)的工藝的特點(diǎn)是：提高了銅布線與玻璃基板的密著性，同時(shí)防止了原子擴(kuò)散。首先，在玻璃基板上形成銅氧化層。在氬氣中混有氧氣的混合氣體條件下進(jìn)行濺射，形成與玻璃基板及底層膜連接的界面銅氧化層。然后，停止供氧，在氬氣條件下層疊銅布線層。
銅氧化層的作用是提高與底板的密著性并充當(dāng)勢(shì)壘層。因此，不再需要Mo及Ti等勢(shì)壘金屬。另外蝕刻特性與銅布線層相同，因此不需要多余的刻蝕工藝。
為進(jìn)一步提高銅氧化層與底板的密著性，此次將添加了比銅更易于氧化的Mg、Mn、Ni、Zr等金屬的銅合金作為濺射靶材。愛發(fā)科公司預(yù)計(jì)液晶面板布線的30％可以使用該技術(shù)，這將有希望成為一個(gè)非常大的市場。
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